• 高标准化：遵循严格的清洁规程（SOP），如按洁净等级使用对应清洁工具（低发尘擦拭布、灭菌擦拭棒），避免交叉污染。
• 微粒控制优先：以减少空气悬浮粒子、微生物为核心，采用 “由上至下、由内而外” 的单向清洁顺序，防止扬尘扩散。
• 专用工具与试剂：使用经洁净室认证的无纤维脱落擦拭布、防静电拖把、HEPA 吸尘器等，清洁剂需低挥发、无残留（如异丙醇）。
• 动态与静态清洁结合：
  • 动态清洁：生产 / 实验过程中及时清理局部污染（如设备溅漏）。
  • 静态清洁：停机后进行全面清洁（如墙面、地面消毒，高效过滤器检漏）。
• 实时监测验证：清洁后需通过粒子计数器、微生物培养皿等检测手段，验证洁净度达标（如 ISO 5 级至 ISO 1 级标准）。

洁净室清洁范围

• 清洁对象：
  • 空间表面：墙面（不锈钢 / 环氧树脂材质）、地面（防静电地板 / 环氧自流平）、天花板、门窗。
  • 设备与器具：生产设备（如半导体光刻机）、实验仪器（超净台）、货架、推车、传递窗。
  • 人员与物料：进入洁净室前需更衣（穿连体洁净服、戴口罩 / 手套）、风淋除尘；物料需经传递窗消毒（如紫外照射、酒精擦拭）。
• 应用场景：
  • 半导体制造：芯片生产线（光刻、蚀刻环节）的微尘控制，需每日清洁晶圆承载台、定期维护净化空调系统。
  • 医药无菌生产：注射剂灌装间的每日灭菌清洁（如 75% 酒精擦拭设备、臭氧熏蒸空气），每周彻底清洁地漏与排水系统。
  • 食品高洁净包装：无菌灌装线的设备表面清洁（使用食品级清洁剂），避免微生物污染。
  • 生物实验室：细胞培养间的台面消毒（过氧乙酸擦拭）、废弃样本的无害化处理。
• 清洁流程：
  1. 准备阶段：穿戴洁净装备，配置合规清洁剂，检查工具洁净度（如擦拭布是否密封包装）。
  2. 实施阶段：按区域等级从高到低清洁（如先清洁百级区再清洁万级区），使用专用工具分区域作业。
  3. 验证阶段：检测悬浮粒子数、沉降菌数，记录清洁结果并存档，不合格需重新清洁直至达标。