超纯水系统特点

• 高纯度：电阻率≥18.2MΩ・cm（25℃），TOC≤5ppb，颗粒（≥0.1μm）≤1 个 /mL，微生物≤1CFU/mL。
• 智能化：在线监测精度 ±1%（电阻率 / TOC），自动再生周期误差≤5%，故障报警响应时间≤10 秒。
• 低能耗：反渗透回收率≥75%，EDI 模块功耗≤0.5kWh/m³，待机损耗≤10W。

超纯水系统范围

• 应用场景：
  • 半导体（晶圆清洗、光刻胶配置）；
  • 生物医药（注射剂配制、GMP 车间清洁）；
  • 精密光学（镜头镀膜、激光器件清洗）。
• 核心技术：
  • 预处理：多介质过滤（截留≥5μm 颗粒）、软化树脂（硬度≤0.1ppm）；
  • 精处理：RO 反渗透（脱盐率≥99.8%）、EDI 电去离子（离子去除率≥99.9%）；
  • 终端处理：UV 杀菌（254nm 紫外线强度≥30mJ/cm²）、抛光树脂（电阻率提升至 18.2MΩ・cm）。