Tag Archives: 辐照 无菌 无尘布 洁净室

特点

  • 高洁净标准：
    • 辐照灭菌（SAL=10⁻⁶，微生物≤1CFU / 片），无尘布颗粒（≥0.1μm）≤5 个 /ft²，离子残留≤5ppb。
    • 洁净室环境：ISO Class 5 级生产（浮游菌≤100CFU/m³），激光封边工艺（纤维脱落≤0.01mg/m²）。
  • 功能特性：
    • 防静电（表面电阻 10⁶-10⁹Ω）、耐溶剂（IPA 浸泡强度保持率≥95%），可吸附 0.1μm 级颗粒（效率≥99.99%）。
    • 低损伤：表面绒毛高度≤0.3mm，摩擦系数≤0.2，适配敏感表面（如光学元件透光率损失≤0.1%）。

范围

  • 应用场景：
    • 医疗领域：无菌手术（植入器械清洁）、GMP 车间（注射液配制台面擦拭）。
    • 半导体：晶圆封装（颗粒去除率≥99.9%）、光刻机部件除尘（洁净度达 Class 10 级）。
    • 航空航天：精密电子元件（如陀螺仪）无尘装配、无菌环境下传感器清洁。
  • 技术关联：
    • 辐照技术：钴 – 60 源（剂量 25-50kGy），灭菌均匀性≥95%。
    • 洁净室控制：换气次数≥200 次 /h，压差≥10Pa，温湿度精度 ±0.5℃/±2% RH。