SAVINA MX 无尘布，由日本 KB SEIREN 精心打造。其选用世界独有的尼龙和聚酯分割型超细复合纤维 Belima X，经特殊工艺处理。纤维极细，仅 0.1 分特（1-5 微米） 。

该无尘布特点鲜明：一是低发尘，表面无毛羽，发尘性近乎为 0，超高温特殊剪裁使边缘密封良好，极大抑制绒毛产生与织物碎片附着。二是清洁力强，纤维呈楔形异形截面，能深入凹凸处，高效捕获尘埃与污渍，且不让污渍二次附着，一次擦拭即可去除近乎所有污渍。三是吸液性优，因纤维特性，对水、油等液体吸收迅速且保水保油能力佳。四是材质柔软，具强缓冲性，擦拭精密物件时不会造成表面损伤。

在范围上，适用于对洁净度要求严苛的场景。半导体制造中，可擦拭晶圆、芯片等，防止微尘影响性能；光学领域，用于清洁镜头、镜片，确保成像清晰；医疗无菌环境里，能对手术器械、医疗设备进行清洁；在硬盘、液晶面板等精密电子元件生产车间，也是理想的清洁耗材，契合 100 级以内，尤其是 10 级无尘室使用 。