TX3280预湿洁净室擦拭布
特点
- 洁净度极高：采用特殊工艺处理的纤维材质，从源头上减少了颗粒和纤维的脱落。在生产过程中，严格遵循高等级洁净室标准，经多道精密清洗工序，确保擦拭布自身洁净，使用时不会向洁净室环境引入额外污染物，满足如芯片制造车间、高端实验室等对洁净度近乎苛刻的场景需求。
- 预湿设计优势明显：预先浸润高纯度溶剂，常见如 99% 异丙醇（IPA）与超纯水的精确配比溶液。这种预湿方式保证了每次擦拭时溶剂浓度稳定，能高效溶解并清除油脂、粘合剂、指纹、助焊剂等各类顽固污渍，且无需现场调配溶剂，避免人为操作误差，提升清洁效率与一致性。
- 材质兼容性佳：选用的纤维材质与多数常见洁净室材料，如玻璃、金属、塑料、硅片、光学元件等，均具有良好的兼容性。擦拭过程中，既不会刮伤被擦拭表面，也不会与被擦拭物发生化学反应，有效保护了精密设备和产品表面的完整性与功能性。
- 包装防护严密：采用三层密封包装，最外层隔绝外界灰尘、微生物；中层阻挡湿气渗透，防止预湿溶剂挥发或变质；内层直接接触擦拭布，确保内部洁净环境。开封后，还具备可复盖设计，延长使用周期，减少因频繁开启导致的污染风险，维持擦拭布在使用过程中的洁净状态。
- 低静电特性：通过特殊的抗静电处理，有效降低擦拭布在摩擦过程中产生的静电电荷。这对于电子元件、集成电路等静电敏感型产品的清洁至关重要，能防止因静电吸附灰尘或造成元件击穿损坏，保障生产与操作安全。
范围
- 半导体领域：在芯片制造的光刻、蚀刻、沉积等多个环节，用于硅片、光刻掩模版、半导体设备内部零部件的清洁，去除生产过程中残留的光刻胶、金属离子、颗粒杂质等，确保芯片制造的高精度与良品率。
- 显示面板行业：适用于 TFT – LCD、AMOLED 等面板生产车间。可清洁玻璃基板、偏光片、彩色滤光片，以及在阵列制程、成盒制程、模组组装等阶段，对设备表面和产品表面进行擦拭，保证面板显示效果，避免因杂质导致的亮点、暗点等缺陷。
- 生物医药：用于无菌洁净室、实验室工作台面、医疗器械、药品生产设备的清洁消毒。配合合适的消毒剂，能有效杀灭细菌、病毒等微生物，满足 GMP（药品生产质量管理规范）对环境和设备清洁的严格要求，保障药品质量安全。
- 光学精密仪器：如显微镜镜头、望远镜镜片、相机镜头等光学元件的清洁，TX3280 预湿洁净室擦拭布能在不损伤镜片镀膜的前提下，清除灰尘、指纹、油污，恢复光学仪器的清晰度与成像质量。
- 航空航天：在航空航天零部件制造、装配车间，对精密电子设备、航空发动机部件、飞行器座舱内部设备等进行清洁维护，确保设备在极端环境下的可靠性与稳定性，满足航空航天领域对产品质量和环境洁净度的高标准 。
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