TX3280预湿洁净室擦拭布
特点
- 洁净度极高:采用特殊工艺处理的纤维材质,从源头上减少了颗粒和纤维的脱落。在生产过程中,严格遵循高等级洁净室标准,经多道精密清洗工序,确保擦拭布自身洁净,使用时不会向洁净室环境引入额外污染物,满足如芯片制造车间、高端实验室等对洁净度近乎苛刻的场景需求。
- 预湿设计优势明显:预先浸润高纯度溶剂,常见如 99% 异丙醇(IPA)与超纯水的精确配比溶液。这种预湿方式保证了每次擦拭时溶剂浓度稳定,能高效溶解并清除油脂、粘合剂、指纹、助焊剂等各类顽固污渍,且无需现场调配溶剂,避免人为操作误差,提升清洁效率与一致性。
- 材质兼容性佳:选用的纤维材质与多数常见洁净室材料,如玻璃、金属、塑料、硅片、光学元件等,均具有良好的兼容性。擦拭过程中,既不会刮伤被擦拭表面,也不会与被擦拭物发生化学反应,有效保护了精密设备和产品表面的完整性与功能性。
- 包装防护严密:采用三层密封包装,最外层隔绝外界灰尘、微生物;中层阻挡湿气渗透,防止预湿溶剂挥发或变质;内层直接接触擦拭布,确保内部洁净环境。开封后,还具备可复盖设计,延长使用周期,减少因频繁开启导致的污染风险,维持擦拭布在使用过程中的洁净状态。
- 低静电特性:通过特殊的抗静电处理,有效降低擦拭布在摩擦过程中产生的静电电荷。这对于电子元件、集成电路等静电敏感型产品的清洁至关重要,能防止因静电吸附灰尘或造成元件击穿损坏,保障生产与操作安全。
范围
- 半导体领域:在芯片制造的光刻、蚀刻、沉积等多个环节,用于硅片、光刻掩模版、半导体设备内部零部件的清洁,去除生产过程中残留的光刻胶、金属离子、颗粒杂质等,确保芯片制造的高精度与良品率。
- 显示面板行业:适用于 TFT – LCD、AMOLED 等面板生产车间。可清洁玻璃基板、偏光片、彩色滤光片,以及在阵列制程、成盒制程、模组组装等阶段,对设备表面和产品表面进行擦拭,保证面板显示效果,避免因杂质导致的亮点、暗点等缺陷。
- 生物医药:用于无菌洁净室、实验室工作台面、医疗器械、药品生产设备的清洁消毒。配合合适的消毒剂,能有效杀灭细菌、病毒等微生物,满足 GMP(药品生产质量管理规范)对环境和设备清洁的严格要求,保障药品质量安全。
- 光学精密仪器:如显微镜镜头、望远镜镜片、相机镜头等光学元件的清洁,TX3280 预湿洁净室擦拭布能在不损伤镜片镀膜的前提下,清除灰尘、指纹、油污,恢复光学仪器的清晰度与成像质量。
- 航空航天:在航空航天零部件制造、装配车间,对精密电子设备、航空发动机部件、飞行器座舱内部设备等进行清洁维护,确保设备在极端环境下的可靠性与稳定性,满足航空航天领域对产品质量和环境洁净度的高标准 。
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