TFT清洁

特点：

 

  • 超高洁净标准：需清除微米级颗粒（≥0.1μm）、有机 / 无机污染物（如光刻胶残迹、金属离子），避免面板缺陷。
  • 材料兼容性严格：使用超纯水（电阻率≥18MΩ・cm）、IPA（异丙醇）等高纯试剂，不腐蚀 ITO 电极或偏光片。
  • 精密工艺控制：采用兆声波清洗（频率≥1MHz）、喷淋 – 刷洗 – 干燥一体化设备，避免二次污染。
  • 静电防护：清洁过程全程防静电（环境湿度控制 45%-65% RH），防止微粒吸附。

 

范围：

 

  • 应用场景：
    • TFT-LCD/AMOLED 面板制造全流程（阵列、成盒、模组阶段）；
    • 玻璃基板切割后清洗、彩膜（CF）制程前处理、电极蚀刻后残留物去除。
  • 关键环节：
    • 光刻胶剥离后的残胶清除；
    • 金属溅镀 / 蚀刻后离子污染物清洗；
    • 偏光片贴附前基板表面净化。

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