抛光布

特点

• 材质工艺：
  • 双面设计：超细纤维层（直径≤5μm）抛光，绒面纤维层（长度 0.3-0.5mm）收光，表面粗糙度 Ra≤0.2μm。
  • 激光切割边缘无散丝，发尘量≤100 个 /ft³（0.5μm 颗粒），符合 ISO 7 级洁净标准。
• 抛光性能：
  • 摩擦系数 0.1-0.3（随抛光剂调整），氧化铝抛光时去除速率≥50nm/min，镜面反光率≥95%。
  • 抗拉伸强度≥150N（横向），可重复使用 50 次以上（洗涤后性能保持率≥90%）。
• 适配性：
  • 兼容水性 / 油性抛光剂（如二氧化硅浆料、金刚石研磨液），对敏感涂层（如 AR 膜）磨损量≤1nm。

范围

• 精密光学：
  • 相机镜头镀膜前抛光（表面划痕≤0.5μm）、显微镜载玻片镜面处理（平整度≤λ/10@632.8nm）；
  • 手机玻璃盖板 AF 防指纹层修复（接触角恢复至 110°±5°）。
• 电子元件：
  • PCB 焊盘镜面抛光（粗糙度 Ra≤0.5μm，提升焊接良率）、半导体封装外壳打磨（金属毛刺去除率≥99%）；
  • 硬盘磁头滑块平面抛光（平面度≤20nm，表面缺陷≤5 个 /cm²）。
• 珠宝 / 钟表：
  • 贵金属表面拉丝抛光（纹路一致性≤±5°）、蓝宝石表镜防刮处理（莫氏硬度提升至 9 级）；
• 禁忌场景：
  • 未固定工件抛光（易导致局部过热变形）；
  • 颗粒度＞10μm 的研磨剂（损伤纤维结构）。