光学设备清洁

特点

• 无损伤清洁：使用超细纤维（直径≤0.1μm）擦拭布，表面摩擦系数≤0.05，避免划伤镜片（硬度≥HRC60）。
• 低颗粒残留：清洁后颗粒污染≤10 个 /ft³（0.3μm 级别），通过 ISO 14644-1 标准检测，适配百级洁净环境。
• 专用试剂适配：
  • 光学级异丙醇（纯度≥99.5%）：去除油污指纹，挥发速度≤500mg/m²・min；
  • 去离子水（电阻率≥18.2MΩ・cm）：清洗水溶性污渍，无离子残留。
• 工具专业化：气吹（压强≤0.2MPa）清除浮尘，棉签（尖头直径≤1mm）处理边缘缝隙，避免物理接触损伤。

范围

• 精密光学元件：
  • 光刻机镜头（NA≥1.35）、望远镜主镜（表面粗糙度≤1nm）、医疗内窥镜镜片；
  • 相机传感器（CMOS/CCD，像素间距≤1.4μm）、激光雷达（LiDAR）发射接收窗口。
• 工业检测设备：
  • 机器视觉镜头（畸变≤0.05%）、光谱仪狭缝（宽度≤50μm）、3D 扫描仪反光板；
  • 半导体晶圆检测设备（缺陷识别精度≤0.1μm）的光学通路清洁。
• 禁忌场景：
  • 未断电的带电光学组件（如激光谐振腔内部）；
  • 表面有疏松镀膜（如 Ag 增强膜，附着力≤0.5N/cm）的非刚性元件。