低离子

特点

• 离子残留极低：总离子含量≤10ppm（通常 Na⁺、Cl⁻、K⁺等常见离子≤1ppm），需通过离子色谱（IC）或电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）检测。
• 工艺控制严格：
  • 超纯水清洗（电阻率≥18.2MΩ・cm）：生产过程使用三级过滤（反渗透 + EDI + 抛光树脂）；
  • 惰性材质接触：设备及容器采用 PTFE、石英等低溶出材料，避免离子污染；
  • 环境管控：ISO 5 级洁净室，杜绝空气粉尘（含金属氧化物）引入离子。
• 高纯度特性：不影响精密检测（如痕量分析）或电化学过程（如电池电解液），无离子干扰风险。

范围

• 半导体制造：光刻胶、CMP 抛光液、清洗耗材（擦拭布、晶圆盒），防止金属离子导致芯片短路。
• 实验室分析：
  • 痕量元素检测（ICP-MS 样品前处理试剂）、基因测序反应液；
  • 超纯水系统（实验室级≥18MΩ・cm）、无离子移液管 / 离心管。
• 新能源领域：
  • 锂电池电解液（LiPF₆纯度要求离子≤5ppm）、电极材料生产；
  • 燃料电池质子交换膜（避免 Na⁺降低质子传导率）。
• 医疗体外诊断：
  • 生化分析仪试剂（如酶反应缓冲液）、血液检测试剂盒；
  • 人工肾透析液（离子浓度需与人体体液严格匹配）。
• 不适用场景：
  • 普通工业清洗（如机械零件除油，无需低离子要求）；
  • 民用日化产品（如洗衣液、护肤品，允许常规离子含量）。