离子脱落

特点

• 定义：材料表面离子（如 Na⁺、Cl⁻、K⁺）在接触液体或摩擦时脱离的现象，影响洁净度与产品性能。
• 检测指标：
  • 阳离子（Na⁺/K⁺等）≤10ppm，阴离子（Cl⁻/SO₄²⁻等）≤5ppm（萃取液测试）。
  • 动态摩擦离子释放量≤20μg/100cm²（ISO 14644-5 标准）。
• 影响因素：材质纯度（如硅胶含金属催化剂残留）、生产工艺（清洗不彻底）、环境湿度（高湿加速离子迁移）。
• 控制技术：超纯水清洗（电导率≤0.1μS/cm）、等离子体处理（表面活化去离子）、真空烘焙（120℃×24h 驱离残留）。

应用范围

• 半导体制造：晶圆承载器（离子污染≤1ppb）、光刻胶涂覆设备（防止金属离子污染光刻图案）。
• 医疗器材：输液管路（Cl⁻残留≤2ppm）、植入式器件（Na⁺释放≤0.1μg/cm²）。
• 精密光学：镜头镀膜工艺（阴离子影响膜层附着力）、LCD 面板制程（离子导致显示异常）。
• 航空航天：传感器芯片封装（离子引发电化学腐蚀）、卫星电子元件（真空环境离子迁移风险）。