研究用高纯度硅晶片4×P型(低电阻)

研究用高纯度硅晶片4×P型(低电阻)

研究用高纯度硅晶片: 作为研究.开发用途有一定实际业绩,供应从少量起步的采用高纯度材料的晶片。

分类: 标签:

描述

研究用高纯度硅晶片4×P型(低电阻)
研究用高纯度硅晶片 研究用高純度シリコンウェハー WAFER
作为研究.开发用途有一定实际业绩,供应从少量起步的采用高纯度材料的晶片。
品牌:其他(进口)

研究用高纯度硅晶片4×P型(低电阻)规格:
● 制造方法:CZ法
● 平面方位:100
● OF位置:110
● 电阻值:0.1~100Ω.cm?※低电阻:≦0.02Ω.cm、高电阻:≧500Ω.cm
● 粒子:2-960-01~不论粒子、 2-960-51~62/≧0.3um、10个以下

研究用高纯度硅晶片4×P型(低电阻)

评价

目前还没有评论

成为第一个评论 “研究用高纯度硅晶片4×P型(低电阻)” 的人

您的电子邮箱地址不会被公开。 必填项已用 * 标注